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爱发科上市研发用超高真空溅射设备

行业资讯 / 2021-08-18 00:17

本文摘要:爱发科(ULVAC)上市了真空度低且增大了颗粒影响的研究研发用喷发物设备“JSP-8000”。该设备可以应用于硬盘磁头的磁性多层膜、太阳能电池的半透明电极、MEMS用绝缘材料等产品的研究研发和少量生产。 喷发物设备的真空度一般来说为5×10-6Pa左右,JSP-8000则需要超过7×10-7Pa。 而且,喷发物方式使用了使阴极和晶圆粗壮的“Sidedepositionmethode”。颗粒吸附量仅有为该公司晶圆和阴极上下配备的传统产品的1/30。

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爱发科(ULVAC)上市了真空度低且增大了颗粒影响的研究研发用喷发物设备“JSP-8000”。该设备可以应用于硬盘磁头的磁性多层膜、太阳能电池的半透明电极、MEMS用绝缘材料等产品的研究研发和少量生产。  喷发物设备的真空度一般来说为5×10-6Pa左右,JSP-8000则需要超过7×10-7Pa。

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而且,喷发物方式使用了使阴极和晶圆粗壮的“Sidedepositionmethode”。颗粒吸附量仅有为该公司晶圆和阴极上下配备的传统产品的1/30。膜薄产于和膜特性经过证实,皆超过了该公司现有产品的水平。

  受到电子部件开发周期延长的影响,用于同一台生产设备展开研究研发和少量生产的拒绝日益反感。为此,爱发科在研究研发用设备中,重新加入了需要向成膜室内自动载运晶圆的晶圆运送设备和需要提升成膜速度的阴极。通过以上措施,处理速度需要比以往的研究研发设备提升5~10倍。


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